распределение по времени, в зависимости от времени полета, энергии осажденной ионами на металлической мишени при облучении ее мощным ионным пучком в биполярном режиме [DOC]
E-Book Overview
Литературный перевод. On time-of-flight ion energy deposition into a metal target by high-intensity pulsed ion beam generated in bipolar-pulse mode. Elseiver. Surface and Coatings Technology xxx (2011) xxx–xxx Исследовалось распределение энергии по времени мощного ионного пучка (МИП) на титановой мишени при облучении на ускорителе ТЕМП-6 с магнитоизолированным диодом (МИД), в котором образование плазмы на аноде происходило в результате действия первой отрицательно заряженной части импульса и затем ускорение протон углеродного пучка ионов положительной частью биполярного импульса. В соответствии с временем полета ионов (ВПИ), ионы С+ прибывают на мишень, расположенную в 14 см от диода, на 55 нс позже протонов при ускоряющем напряжении 250 кВ и спектр энергии ионов значительно варьируется, хотя изначально на диоде соответствует гауссовскому распределению а прибывает на мишень с мульти-энергетическим комплексным распределением. Осаждение энергии МИП в зависимости от ВПИ показывает, что изначально осаждение энергии происходит на больших глубинах ионами Н+ а затем на приповерхностном слое ионами С+. Обнаружено, что вклад энергии ионов Н+ в осажденную энергию ионов незначителен при составе пучка 70% С+ и 30% Н+. В результате, градиент профиля энергии осажденной на мишени ионами С+ отрицателен в течении всего импульса. Уникальная природа осаждения энергии при облучении МИП может приводить к различным тепловым и динамическим эффектам в сравнении с предыдущими исследованиями по облучению материалов пучками протонов, электронов или лазерными лучами, особенно к ограничению приповерхностного нагрева, приводящего к выбросу расплавленного материала и образованию кратеров и волнообразной поверхности.
E-Book Information